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高抗拉锂电铜箔添加剂：HT1™
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产品编号
所属分类
铜箔添加剂
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-
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1
产品描述
参数
|
品质项目 |
高抗拉双光锂电铜箔技术标准 |
||||
|
6 μm |
7 μm |
8 μm |
9 μm |
||
|
抗拉强度（Mpa） |
常温 |
≥ 400 |
≥ 400 |
≥ 400 |
≥ 400 |
|
延伸率（%） |
常温 |
≥ 3.0 |
≥ 3.0 |
≥ 5.0 |
≥ 5.0 |
|
表面粗糙度（μm） |
光面（Ra） |
≤ 0.3 |
|||
|
毛面（Rz） |
≤ 3.0 |
||||
|
抗氧化性能 |
150 oC/10 min 烘烤后无明显氧化变色 |
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表面润湿张力（mN/m） |
≥ 38 |
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毛面光泽度 |
50~400 |
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注：以上数据由铜箔生产厂家提供。 |
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产品介绍
HT1™配方作为生产双面光锂电铜箔的主剂，起到光亮与晶粒细化作用，使铜箔均匀，防止铜箔卷曲，增加铜箔延伸率。
产品特点：
1、可在高电流密度下生产双光电解铜箔，最大电流密度超过70A/dm2；
2、添加剂性能稳定，水溶性好，生产工艺易控制，使用流量小，降低生产成本；
3、生产铜箔抗拉强度及延伸率稳定、外观光泽度均匀性优良、低翘曲、无需额外烘烤降翘曲、无配方原发性毛刺；
4、在生产过程中能明显消除亮印。
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中抗拉锂电铜箔添加剂：MT1™
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