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高抗拉锂电铜箔添加剂:HT1™
HT1™配方作为生产双面光锂电铜箔的主剂,起到光亮与晶粒细化作用,使铜箔均匀,防止铜箔卷曲,增加铜箔延伸率。
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中抗拉锂电铜箔添加剂:MT1™
MT1™配方作为生产双面光锂电铜箔的主剂,起到光亮与晶粒细化作用,使铜箔均匀,防止铜箔卷曲,增加铜箔延伸率。
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普通抗拉锂电铜箔添加剂:GT2™
GT2™配方作为生产双面光锂电铜箔的主剂,起到光亮与晶粒细化作用,使铜箔均匀,防止铜箔卷曲,增加铜箔延伸率。
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精密镀铜添加剂
适用于复合铜箔,超精细线路,光伏镀铜等精细镀铜过程。
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IBRAC™系列
IBRAC™系列产品为主要用于聚合物场效应晶体管(OFET)及相关光电半导体聚合物当中。
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功能高分子材料
聚酰亚胺(PI)作为一类含杂稠环聚合物,其介电性能和机械性能优异,膨胀系数低、绝缘阻燃性能高,是应用于柔性电子设备、光电显示领域和柔性印刷线路板的理想材料。公司目前正在开发应用于2L-FCCL的高端聚酰亚胺产品,样品已经交由客户试用,试用合格后预计明年将大批量供应。
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德思光电将不断提高自身的经营与管理水平,加强与客户的沟通协作,继续专注产品技术创新,为客户提供高品质的产品和技术解决方案

 

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